DLC涂層沉積設備組成的五部分系統

DLC類金剛石涂層是一種亞穩態的非晶碳莫，兼具金剛石和石墨的質優特性，具有較好的硬度、杰出的熱傳導性、低摩擦系數、優異的電絕緣性能、高化學穩定性等應用長處，在機械制造、生物醫學、電子設備等范疇有著普遍應用。DLC涂層首要選用物理i氣相堆積法、化學氣相堆積法來制備，經過專門的堆積設備進行生產制造。

2022-09-12 14:27:30中山市利晟納米科技有限公司

DLC類金剛石涂層是一種亞穩態的非晶碳莫，兼具金剛石和石墨的質優特性，具有較好的硬度、杰出的熱傳導性、低摩擦系數、優異的電絕緣性能、高化學穩定性等應用長處，在機械制造、生物醫學、電子設備等范疇有著普遍應用。DLC涂層首要選用物理i氣相堆積法、化學氣相堆積法來制備，經過專門的堆積設備進行生產制造。

一、加熱與水冷體系

加熱體系與水冷體系均勻分布于堆積室四周，加熱溫度、速度及水量可控可調，并安裝有相應的報警裝置；旋轉體系坐落堆積室底部，經過絕緣陶瓷進行絕緣，旋轉速度可控可調。

二、真空體系

真空體系由機械泵、羅茨泵、擴散泵及相應的操控閥門、測量元件組成，能夠依據工藝需求自由地進行高真空和低真空的切換。

三、供氣體系

供氣體系置于堆積室頂部，氣體品種包含H2、N2、Ar、CHa、C2H2、含Si氣體，同時堆積室頂部預留兩路接口，便利以后其他品種氣體的添加。

含Si的過渡層是公認的PCVD辦法中有利于增強DLC涂層與基體結合力的一種涂層，為了取得Si，通常選用SiH4作為質料氣，但是SiH4危險性較高，所以在此選用了危險性較低的含Si氣體作為Si源。

四、堆積靶材體系

設備具有PVD和PCVD兩個堆積單元，PCVD單元首要意圖是用于類金剛石(DLC)的堆積，選用的電源為脈沖調制電源，各項參數接連可調，經過對參數的調整，能夠堆積不同硬度和厚度的DLC涂層，同時，經過對工件裝卡方式的調整，還能夠在復雜工件上進行涂層；PVD單元的意圖首要有：①針對不同的基體經過更換不同的靶材能夠開發不同的粘結層或含有不同品種元素的金屬摻雜DLC涂層；②經過更換靶材，能夠形成多種“功用層+DLC”的用于不同范疇的復合涂層。

五、電氣操控體系

電氣操控體系選用PLC全主動操控，包含上位機、PLC可編程操控器、適配轉換器、操控電源、真空操控電源及測量體系、送氣操控電源、溫控體系、冷卻水檢測操控電源等。開爐前，在工藝編輯界面編輯涂層工藝并存檔，在開爐時調用所需工藝，設備將主動運轉，并實時進行檢測監控。若有問題設備將主動報警，依據警報等級設備選擇“等候”狀況或直接停機，待警報免除后繼續運轉。每爐的運轉記錄及報警記錄都主動存儲于電腦中便利查閱。依據需求，設備可改為全手動運轉，涂層過程中在主操作界面調整各項涂層參數進行操控。